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CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。CIF等離子清洗機F系列性能穩(wěn)定，操作簡單方便，易維護。

CIF勻膠機轉速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設計，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

紫外臭氧清洗機（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機污染物。

等離子灰化儀又稱等離子有機質去除儀用于煤與生物質樣品的低溫灰化，SEM&TEM中有機樣品刻蝕，塑料品的表面處理以及有機材料的微觀灰化。

CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機，采用 RIE 反應離子誘導激發(fā)方式，實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所，微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價比高，易維護，處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。

CIF推出全新一代 CPC-10系列實驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高效， 特別適合于大學， 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念。CIF實驗室型等離子清洗機具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高效， 特別適合于大學， 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。